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靶材的主要性能要求杂质含量   靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，靶材厂家，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。 Ag及Ag合金靶材       Ag靶材主要应用于光盘介质的反射膜；STN液晶显示装置或有机EL显示装置等的光反射性薄膜。在Ag合金中添加少量的In、Sn、Zn或Au、Pd、Pt，或根据情况添加少量的Cu，可将低溅射靶材电阻，提高靶材图案形成性、耐热性、反射率和耐硫化性等。众诚达主要经营：溅射靶材、靶材、铬靶、硅靶、铜靶 、钨鉬、钛铝靶  。薄膜的纯度与靶材的纯度关 系极大，靶材，过去99.995 %（4 N5） 纯度的铜靶，靶材定制，或许能够满 足半导体厂商0.3 5pm 工艺的需求，但是却无法满 足 目前0.2 5um的工艺要求， 而未米的 0.18um 工艺甚至0.13m工艺，镍铂靶材，所需要的靶材纯度将要求达 到5甚至 6N以上。铜与铝相比较，铜具有更高的抗电迁移能力及更 低的电阻率，能够满足！ 靶材、众诚达应用材料公司、靶材厂家由深圳市众诚达应用材料科技有限公司提供。“溅射靶材,真空镀膜靶材,金属靶材,合金靶材,陶瓷靶材,”就选深圳市众诚达应用材料科技有限公司（），公司位于：深圳市宝安区公明街道上村莲塘工业城C区39栋，多年来，众诚达应用材料公司坚持为客户提供*的服务，联系人：涂先生。欢迎广大新老客户来电，来函，亲临指导，洽谈业务。众诚达应用材料公司期待成为您的长期合作伙伴！ 标签：     深圳市镍铂靶材   深圳市镍铂靶材厂家
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