硼化铬靶材 CrB靶材 磁控溅射靶材 电子束蒸发料
硼化铬靶材 CrB靶材 磁控溅射靶材 电子束蒸发料 纯度:99.5% 中文名称 硼化铬 英文名称 Chromium diboride EINECS 234-488-3 分子量 11…
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硼化铬靶材 CrB靶材 磁控溅射靶材 电子束蒸发料 纯度:99.5% 中文名称 硼化铬 英文名称 Chromium diboride EINECS 234-488-3 分子量 11…
钴镍合金靶材 CoNi靶材 磁控溅射靶材 电子束蒸发料 纯度:99.99% 定制方法:根据客户图纸定制 标签: 北京市钴镍合金靶材靶材 北京市钴镍合金靶材靶材厂家 北京市 北京市北…
高纯银 靶材 Ag靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料 纯度:99.99% 中文名 银 分子量 107.8682 熔 点 961.78℃ 沸 点 2212℃ 密 度 10.49g/c…
磁控溅射靶材 钛靶材 Ti靶材 科研实验靶材 电子束镀膜蒸发料 纯度:99.99% 钛是一种化学元素,化学符号Ti,原子序数22,在化学元素周期表中位于第4周期、第IVB族。是一种…
高纯 金属 锆靶材 Zr靶材 磁控溅射靶材 镀膜蒸发料 纯度:99.99% 中文名 锆 熔 点 1852 沸 点 4377℃ 水溶性 不溶于水 密 度 6.49g/cm3 物质类型…
二硅化钼靶材 MoSi2靶材 磁控溅射靶材 电子束蒸发料 纯度:99.5% 中文名 二硅化钼 熔 点 2030℃ 密 度 6.24g/cm3 分子量 154.13 EINECS 2…
金属锗靶材 Ge靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料 纯度:99.99% 中文名 锗 水溶性 不溶于水 分子量 72.61 原子序数 32 熔 点 938.25℃ 沸 点 2830℃…
硫化铟靶材 In2S3靶材 磁控溅射靶材 电子束蒸发料 纯度:99.999% 中文名 硫化铟 分子量 325.831 EINECS 234-742-3 密度(g/mL,25℃) 4…
铋靶材 Bi靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料 纯度:99.99% 中文名 铋 原子序数 83 原子量 208.98038 熔点 271.3℃ 沸点 1560±5℃ 原子体积(立方…
硅化铪靶材 HfSi2靶材 磁控溅射靶材 电子束蒸发料 纯度:99.5% 中文名 硅化铪 英文名 Hafnium silicide EINECS 235-640-1 分子式 HfS…
硼化钽靶材 BTa靶材 磁控溅射靶材 电子束蒸发料 纯度:99.5% 中文名 硼化钽 英文名称 tantalum boride 分子量 191.7589 EINECS 234-49…
硼化铌靶材 BNb靶材 磁控溅射靶材 电子束蒸发料 纯度:99.5% 中文名 硼化铌 英文名 Niobium boride EINECS 234-958-8 分子量 103.717…
Pt靶材 铂靶材 铂金靶材 磁控溅射靶材 镀膜蒸发料 纯度:99.99% 中文名 铂 密 度 21.45 g·cm3(室温) 英文名 Platinum 外 观 银白色 分子量 19…
硅化铪靶材 HfSi2靶材 磁控溅射靶材 电子束蒸发料 纯度:99.5% 中文名 硅化铪 英文名 Hafnium silicide EINECS 235-640-1 分子式 HfS…
高纯金属碲靶材 Te靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料 纯度:99.99% 中文名 碲 分子量 127.6 原子序数 52 密 度 6.25×10kg/m 熔 点 452℃ 沸 点…
高纯金属 锡靶材 Sn靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料 纯度:99.99% 中文名 锡 溶解度 微溶于水 原子量 118.71 原子序数 50 熔 点 231.89℃ 沸 点 2…
高纯金属镍靶材 Ni靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料 纯度:99.99% 中文名 镍 原子序数 28 原子量 58.69 密度 8.902克/立方厘米 熔点 1453℃ 沸点 2…
钴镍合金靶材 CoNi靶材 磁控溅射靶材 电子束蒸发料 纯度:99.99% 定制方法:根据客户图纸定制 标签: 北京市钴镍合金靶材靶材 北京市钴镍合金靶材靶材厂家 北京市 北京市北…
高纯金属碳靶材 C靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料 纯度:99.99% 中文名 碳 分子量 12.01 化学物质登录号 7440-44-0 EINECS登录号 231-153-3…
高纯 金属镁靶材 Mg靶材 磁控溅射靶材 镀膜蒸发料 纯度:99.99% 中文名 镁 相对原子质量 24.3050 熔点(℃) 648 沸点(℃) 1107 标签: 北京市磁控溅射…